多弧磁控溅射多功能离子镀膜备可在金属或非金属的表面镀制硬质增寿腊、装饰腊、合金膜或多层腊，可广泛用于刀刃、模具、钟表、首饰、灯具、建筑五金及装饰用彩色钢板、眼镜架、电子产品、医疗器械、仪器仪表等领域。
多弧磁控溅射多功能离子镀膜设备在真空条件下采用物理气相沉积技术，在基片上镀制氮化钛及其它薄膜。它将多弧离子镀技术、柱形靶及磁控油射离子镀技术有机结合在一起，可单独使用或同时使用，制取含有连续过渡层的各种膜层。
多弧磁控溅射多功能离子镀膜设备制造简单，使用方便，运行成本低无污染，经济效益高。其双真空室可交替工作，能提高工效一倍，大大节省投资。该设备主要性能指标如下：镀膜室极限真空度1.3×10〈’-3〉Pa;抽真空时间(从大气抽至6.67×10〈’-3〉Pa)≤20min;压升率1Pa/h;工作周期1h;弧电流60￣90A;弧电压18￣21V;磁控油射靶功率10￣36kW。该设备已在国内外出售几十台套，取得了良好的社会经济效益。
关键词：镀膜设备 多弧磁控溅射多功能离子镀膜设备
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